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在半導(dǎo)體制造的圣殿中,晶圓清洗是通往高良率的必經(jīng)之門。然而,一尊看不見的“守護神"——超純水(UPW),卻因其至高無上的純度,悄然化身成為靜電污染的元兇。無數(shù)先進的晶圓曾在清洗后莫名失效,其背后真兇往往是因摩擦而產(chǎn)生的靜電荷所引發(fā)的微粒吸附(ESA) 與 電路擊穿(ESD)。如何終結(jié)這一隱形威脅,守護每一片晶圓的潔凈與完整?日本NGK公司的 MEGCON II+ PRC系列 超純水帶電防止器,提供了堪稱解決方案。
超純水,電阻率高達(dá)18.2 MΩ·cm,是近乎絕緣體。在高壓噴射、刷洗、旋轉(zhuǎn)沖洗等高效清洗過程中,超純水與晶圓表面發(fā)生劇烈摩擦,極易產(chǎn)生和積累大量靜電荷。這些“無處可去"的電荷在晶圓表面形成強大的靜電場,其危害立見影:
像磁鐵一樣吸附微粒: 帶電的晶圓會將潔凈室環(huán)境中帶電的微小顆粒牢牢吸附,造成難以清除的二次污染,導(dǎo)致圖形缺陷。
致命的瞬間放電: 積累的電荷一旦放電,其能量足以擊穿納米級精密電路,直接導(dǎo)致產(chǎn)品報廢。
工藝一致性破環(huán)者: 靜電力的不可控性,使清洗效果變得難以預(yù)測,破壞工藝的穩(wěn)定性和重復(fù)性。
傳統(tǒng)方法如IPA添加存在污染風(fēng)險,而普通離子風(fēng)機僅能治標(biāo)。行業(yè)迫切需要一種能從源頭根、且絕對潔凈的解決方案。
NGK的MEGCON II+ PRC系列并非簡單的設(shè)備,而是一個智能的靜電管理系統(tǒng)。其核心原理是:為超純水“量身定制"一份精確的導(dǎo)電性。
系統(tǒng)通過中空絲膜模塊,將高純度食品級CO?氣體安全、高效地溶解于超純水中。CO?與水反應(yīng)生成碳酸,并微弱電離出H?和HCO??離子。這些微量離子的引入,巧妙地賦予了超純水導(dǎo)走電荷的能力,從物理根源上杜絕了靜電的產(chǎn)生。
最關(guān)鍵的是,整個過程無任何化學(xué)添加。清洗完成后,溶解的CO?可通過后續(xù)的加熱或真空脫氣步驟被輕松、徹地去除,超純水瞬間恢復(fù)其“至高純度",絕不在晶圓上留下任何殘留。
這是MEGCON II+系列超越類技術(shù)的靈魂所在。它構(gòu)建了一個精密的閉環(huán)智能控制系統(tǒng):
實時感知: 高精度電阻率傳感器7x24小時監(jiān)測產(chǎn)出水的電阻率。
智慧決策: 控制系統(tǒng)將實時數(shù)據(jù)與您設(shè)定的最佳電阻率值(如2.0 MΩ·cm)進行比對。
精準(zhǔn)執(zhí)行: 自動調(diào)節(jié)CO?注入閥的開度,以應(yīng)對水流量的任何波動。
持續(xù)反饋: 形成一個不間斷的控制回路。
這意味著,無論前端水壓、流量如何劇烈變化,系統(tǒng)輸出的超純水其靜電消除能力始終恒定如一,從而為您的每一片晶圓提供毫無差異的、穩(wěn)定的保護。
選擇MEGCON II+ PRC,就是為您的產(chǎn)線良率上了一把智能化的“安全鎖"。
靜電消除效果: 將晶圓表面電位穩(wěn)定控制在±50V的安全區(qū)內(nèi),徹告別ESA和ESD風(fēng)險。
無可挑剔的潔凈度: 純物理方式,0污染、零殘留,契合先進制程對污染控制的苛刻要求。
無比的穩(wěn)定性: 告別因流量波動導(dǎo)致的工藝偏差,保證批間、片間均勻,提升產(chǎn)品一致性。
智能化的生產(chǎn)管理: 警報歷史功能助力快速故障定位;密碼保護防止誤操作;遠(yuǎn)程通信(RS-485/以太網(wǎng))輕松對接智能制造系統(tǒng),實現(xiàn)數(shù)字化管理與追溯。
在半導(dǎo)體工藝節(jié)點不斷微縮的今天,任何微小的污染和缺陷都是不可接受的。靜電污染不再是那個無法捉摸的“幽靈"。日本NGK MEGCON II+ PRC系列通過其創(chuàng)新的技術(shù)理念和智能化的精密控制,為您提供了終結(jié)這一問題的能力。
它不僅僅是一臺設(shè)備,更是您提升良率、保障生產(chǎn)穩(wěn)定性、邁向智能化制造的戰(zhàn)略伙伴。投資MEGCON II+ PRC,就是投資于您未來生產(chǎn)的每一份確定性與高質(zhì)量產(chǎn)出,牢牢守護您的核心競爭力。
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